Oksidni sloj na površini toplo valjane ploče od nehrđajućeg čelika s premazom obično je debeo. Ako se ukloni samo kemijskim kiseljenjem, to ne samo da će povećati vrijeme kiseljenja i smanjiti učinkovitost kiseljenja, već će i previše povećati troškove kiseljenja. Stoga je potrebno koristiti druge metode kao pomoćna sredstva za prethodnu obradu čelične ploče. Postoje tri glavne metode prethodne obrade za kiseljenje:

1. Sačmarenje

Sačmarenje je trenutno široko korištena metoda mehaničke defosforizacije. Princip je korištenje opreme za sačmarenje za prskanje fino granuliranog čelične sačme (pijeska) kako bi se udarilo u ploču obloženu nehrđajućim čelikom i uklonio oksidni sloj sa površine čelika. Nakon tretmana sačmarenjem, dio oksidnog sloja se uklanja, a struktura preostalog oksidnog sloja na površini ploče postaje isprekidana i labava, što je korisno za naknadni proces kiseljenja.

2. Tretman luženjem alkalija

Tretmani alkalnog ispiranja su oksidativno alkalno i reduktivno alkalno ispiranje. Oksidacijsko alkalno ispiranje se naziva i "metoda slane kupke". Alkalni CrO3, zbog promjene strukture i volumena oksidnog sloja, dovodi do otpadanja oksidnog sloja. Reduktivno alkalno ispiranje služi za promjenu nerastvorljivih metalnih oksida, kao što su željezo, nikl, hrom i drugi nerastvorljivi metalni oksidi u oksidnom sloju, nazad u metale i jeftine okside pomoću jakog redukcijskog sredstva NaH, što uzrokuje lomljenje i otpadanje oksidnog sloja, čime se skraćuje vrijeme kiseljenja i poboljšava ukupna efikasnost.

Vrijedi napomenuti da ploče obložene nehrđajućim čelikom uzrokuju određeni stepen zagađenja Cr6+ tokom procesa oksidativnog alkalnog ispiranja. Tretman redukcionim alkalnim ispiranjem može eliminirati problem zagađenja Cr6+, ali njegova ključna sirovina, NaH, ne može se proizvoditi u Kini. Trenutno se u Kini češće koristi metoda tretmana alkalnim ispiranjem oksidacijom kalijum permanganata, dok se u inostranstvu obično koristi tretman alkalnim ispiranjem redukcionim tipom.

3. Elektroliza neutralne soli

Proces elektrolize neutralne soli koristi vodeni rastvor Na2SiO4 kao elektrolit. Ploča obložena filmom od nehrđajućeg čelika može proći kroz električno polje između katode i anode, kontinuirano mijenjati katodu i anodu i uklanjati površinski oksidni sloj djelovanjem struje. Mehanizam procesa elektrolize neutralne soli zasniva se na činjenici da se teško rastvorljivi oksidi hroma, mangana i željeza u oksidnom sloju oksidiraju u skupe rastvorljive ione, čime se rastvara oksidni sloj; Metal u bateriji se oksidira u ione, tako da se oksidni sloj pričvršćen za površinu ljušti.