උණුසුම්-රෝල් කරන ලද මල නොබැඳෙන වානේ ආලේපිත තහඩුවේ මතුපිට ඇති ඔක්සයිඩ් ස්ථරය සාමාන්‍යයෙන් ඝනකමෙන් යුක්ත වේ. එය රසායනික අච්චාරු දැමීමෙන් පමණක් ඉවත් කළහොත්, එය අච්චාරු දැමීමේ කාලය වැඩි කර අච්චාරු දැමීමේ කාර්යක්ෂමතාව අඩු කරනවා පමණක් නොව, අච්චාරු දැමීමේ පිරිවැය ද වැඩි කරයි. එබැවින්, වානේ තහඩුව පූර්ව-ප්‍රතිකාර කිරීම සඳහා සහායක මාධ්‍යයන් ලෙස වෙනත් ක්‍රම භාවිතා කළ යුතුය. අච්චාරු දැමීම සඳහා ප්‍රධාන පූර්ව-ප්‍රතිකාර ක්‍රම තුනක් තිබේ:

1. වෙඩි තැබීම

ෂොට් පීනිං යනු වර්තමානයේ බහුලව භාවිතා වන යාන්ත්‍රික ඩිෆොස්ෆරීකරණය කිරීමේ ක්‍රමයකි. මූලධර්මය වන්නේ වානේ මතුපිට ඔක්සයිඩ් ස්ථරය ඉවත් කිරීම සඳහා මල නොබැඳෙන වානේ ආලේපිත තහඩුවට බලපෑම් කිරීම සඳහා සියුම් කැටිති වානේ වෙඩි (වැලි) ඉසීමට ෂොට් පීනිං උපකරණ භාවිතා කිරීමයි. ෂොට් පීනිං ප්‍රතිකාරයෙන් පසු, ඔක්සයිඩ් ස්ථරයේ කොටසක් ඉවත් කරනු ලබන අතර, පුවරු මතුපිට ඉතිරි ඔක්සයිඩ් ස්ථරයේ ව්‍යුහය අතරමැදි සහ ලිහිල් වන අතර, එය පසුකාලීන අච්චාරු දැමීමේ ක්‍රියාවලියට ප්‍රයෝජනවත් වේ.

2. ක්ෂාර කාන්දු ප්‍රතිකාරය

ක්ෂාර කාන්දු කිරීමේ ප්‍රතිකාර යනු ඔක්සිකාරක ක්ෂාරීය කාන්දු වීම සහ ක්ෂාරීය කාන්දු වීම අඩු කිරීමයි. ඔක්සිකරණ ආකාරයේ ක්ෂාර කාන්දු වීම "ලුණු ස්නාන ක්‍රමය" ලෙසද හැඳින්වේ. ක්ෂාරීය CrO3, සහ ඔක්සයිඩ් ස්ථරයේ ව්‍යුහය සහ පරිමාව වෙනස් වීම නිසා ඔක්සයිඩ් ස්ථරය වැටෙනු ඇත. අඩු කරන ලද ක්ෂාරීය කාන්දු වීම යනු යකඩ, නිකල්, ක්‍රෝමියම් සහ අනෙකුත් දිය නොවන ලෝහ ඔක්සයිඩ් වැනි දිය නොවන ලෝහ ඔක්සයිඩ ශක්තිමත් අඩු කිරීමේ කාරකය NaH හරහා ලෝහ සහ අඩු මිල ඔක්සයිඩ බවට ඔක්සයිඩ් ස්ථරය නැවත වෙනස් කිරීම සහ ඔක්සයිඩ් ස්ථරය කැඩී වැටීමට සැලැස්වීමයි, එමඟින් අච්චාරු දැමීමේ කාලය කෙටි කිරීම, සමස්ත කාර්යක්ෂමතාව වැඩි දියුණු කිරීමයි.

ඔක්සිකාරක ක්ෂාර කාන්දු වීමේ ප්‍රතිකාර ක්‍රියාවලියේදී මල නොබැඳෙන වානේ ආවරණ තහඩු යම් ප්‍රමාණයක Cr6+ දූෂණයක් ඇති කරන බව සඳහන් කිරීම වටී. අඩු කිරීමේ ක්ෂාරීය කාන්දු වීමේ ප්‍රතිකාරය Cr6+ දූෂණයේ ගැටලුව ඉවත් කළ හැකි නමුත් එහි ප්‍රධාන අමුද්‍රව්‍යය වන NaH චීනයේ නිෂ්පාදනය කළ නොහැක. වර්තමානයේ, චීනයේ බහුලව භාවිතා වන ක්‍රමය වන්නේ පොටෑසියම් පර්මැන්ගනේට් ඔක්සිකරණ වර්ගයේ ක්ෂාර කාන්දු වීමේ ප්‍රතිකාරය වන අතර, අඩු කිරීමේ වර්ගයේ ක්ෂාර කාන්දු වීමේ ප්‍රතිකාරය විදේශයන්හි බහුලව භාවිතා වේ.

3. උදාසීන ලුණු විද්‍යුත් විච්ඡේදනය

උදාසීන ලුණු විද්‍යුත් විච්ඡේදක ක්‍රියාවලියේදී විද්‍යුත් විච්ඡේදනය ලෙස Na2SiO4 ජලීය ද්‍රාවණය භාවිතා වේ. මල නොබැඳෙන වානේ පටල ආලේපිත තහඩුවට කැතෝඩය සහ ඇනෝඩය අතර විද්‍යුත් ක්ෂේත්‍රය හරහා ගමන් කළ හැකි අතර, කැතෝඩය සහ ඇනෝඩය අඛණ්ඩව වෙනස් කළ හැකි අතර, ධාරාවේ ක්‍රියාකාරිත්වය හරහා මතුපිට ඔක්සයිඩ් ස්ථරය ඉවත් කළ හැකිය. උදාසීන ලුණු විද්‍යුත් විච්ඡේදක ක්‍රියාවලියේ යාන්ත්‍රණය පදනම් වී ඇත්තේ ඔක්සයිඩ් ස්ථරයේ ඇති ක්‍රෝමියම්, මැංගනීස් සහ යකඩවල විසුරුවා හැරීමට අපහසු ඔක්සයිඩ් ඉහළ මිලක් සහිත ද්‍රාව්‍ය අයන බවට ඔක්සිකරණය වී එමඟින් ඔක්සයිඩ් ස්ථරය විසුරුවා හැරීමයි; බැටරියේ ඇති ලෝහය අයන බවට ඔක්සිකරණය වන අතර එමඟින් මතුපිටට සවි කර ඇති ඔක්සයිඩ් ස්ථරය ඉවත් කරනු ලැබේ.