열연 스테인리스 강판 표면의 산화막은 일반적으로 두껍습니다. 화학적 산세만으로 제거하면 산세 시간이 길어지고 산세 효율이 저하될 뿐만 아니라 산세 비용도 크게 증가합니다. 따라서 강판 전처리를 위한 보조적인 방법으로 다른 방법을 사용해야 합니다. 산세에는 세 가지 주요 전처리 방법이 있습니다.

1. 샷 블라스팅

쇼트피닝은 현재 널리 사용되는 기계적 탈린법입니다. 원리는 쇼트피닝 장비를 사용하여 미세한 입자의 강판(모래)을 분사하여 스테인리스강 코팅판에 충격을 가하여 강판 표면의 산화막을 제거하는 것입니다. 쇼트피닝 처리 후, 산화막의 일부가 제거되고, 판 표면에 남아 있는 산화막의 구조가 간헐적이고 느슨해져서 후속 산세 공정에 유리합니다.

2. 알칼리 침출 처리

알칼리 침출 처리에는 산화성 알칼리 침출과 환원성 알칼리 침출이 있습니다. 산화형 알칼리 침출은 "염욕법"이라고도 합니다. 알칼리성 CrO3를 사용하면 산화물층의 구조와 부피가 변화하여 산화물층이 탈락합니다. 환원성 알칼리 침출은 강력한 환원제인 NaH를 통해 산화물층 내의 철, 니켈, 크롬 및 기타 불용성 금속 산화물을 금속 및 저가 산화물로 환원시켜 산화물층을 파괴하고 탈락시키는 것입니다. 이를 통해 산세척 시간을 단축하고 전반적인 효율을 향상시킵니다.

스테인리스강 클래드 강판은 산화 알칼리 침출 처리 과정에서 일정 수준의 Cr6+ 오염을 유발한다는 점에 유의해야 합니다. 환원 알칼리 침출 처리는 Cr6+ 오염 문제를 해결할 수 있지만, 핵심 원료인 NaH는 중국에서 생산할 수 없습니다. 현재 중국에서는 과망간산칼륨 산화형 알칼리 침출 처리가 주로 사용되고 있으며, 해외에서는 환원형 알칼리 침출 처리가 널리 사용되고 있습니다.

3. 중성염 전기분해

중성염 전해 공정은 Na2SiO4 수용액을 전해질로 사용합니다. 스테인리스 스틸 필름 코팅판은 양극과 음극 사이의 전기장을 통과하여 양극과 음극을 연속적으로 변화시키며, 전류의 작용으로 표면 산화막을 제거합니다. 중성염 전해 공정의 메커니즘은 산화막에 존재하는 크롬, 망간, 철과 같은 용해하기 어려운 산화물이 고가의 가용성 이온으로 산화되어 산화막을 용해하고, 전지 내부의 금속이 이온으로 산화되어 표면에 부착된 산화막이 벗겨지는 원리에 기반합니다.